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窄帶紅外濾光片的透過率優(yōu)化策略

更新時(shí)間:2025-04-11 點(diǎn)擊次數(shù):279
   窄帶紅外濾光片的核心性能指標(biāo)是中心波長透過率(Tmax)與半高寬(FWHM)的平衡。在氣體檢測、熱成像等應(yīng)用中,高透過率(>85%)與窄帶寬(<10nm)的協(xié)同優(yōu)化是技術(shù)難點(diǎn)。以下從材料、膜系設(shè)計(jì)、工藝控制三方面提出優(yōu)化策略:
  一、材料選擇:匹配光譜需求
  高折射率介質(zhì)材料
  采用硫系玻璃(如Ge-As-Se)或半導(dǎo)體薄膜(如ZnS、GaAs),其紅外吸收系數(shù)低(<0.01cm?¹),可減少光損耗。
  案例:在8-12μm大氣窗口,Ge-As-Se玻璃的透過率較傳統(tǒng)石英玻璃提升20%。
  低吸收基底材料
  選用單晶硅、氟化鈣(CaF?)等低紅外吸收基底,避免基底對目標(biāo)波段的能量吸收。
  二、膜系設(shè)計(jì):調(diào)控光譜特性
  法布里-珀羅(F-P)干涉結(jié)構(gòu)
  通過多層高/低折射率膜層交替堆疊,形成窄帶干涉腔。
  優(yōu)化參數(shù):調(diào)整膜層厚度比(如nH/nL=1.8),控制FWHM至5-8nm。
  吸收型窄帶濾光片
  在介質(zhì)膜中摻雜稀土元素(如Er³?),利用其特征吸收峰實(shí)現(xiàn)窄帶濾波。
  優(yōu)勢:無需嚴(yán)格膜厚控制,適合大批量生產(chǎn)。
  三、工藝控制:提升鍍膜質(zhì)量
  離子束輔助沉積(IBAD)
  在鍍膜過程中引入離子束轟擊,增強(qiáng)膜層致密度,降低散射損耗。
  效果:透過率提升5-10%,膜層應(yīng)力降低40%。
  溫度與真空度控制
  鍍膜溫度控制在150-200℃,真空度優(yōu)于1×10?³Pa,減少氣體分子吸附導(dǎo)致的光吸收。
  四、性能驗(yàn)證與案例
  測試方法:采用FTIR光譜儀檢測透過率,激光干涉儀測量膜層厚度。
  案例:某氣體傳感器通過優(yōu)化膜系設(shè)計(jì)(F-P結(jié)構(gòu)+IBAD工藝),將CO?檢測靈敏度提升至0.1ppm,同時(shí)透過率>88%。
  通過材料、設(shè)計(jì)與工藝的協(xié)同優(yōu)化,窄帶紅外濾光片可實(shí)現(xiàn)高透過率與窄帶寬的雙重突破,滿足光譜應(yīng)用需求。

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